EUV光刻的兩大挑戰者,誰扛大旗?
光(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)是半導體(ti)行業的(de)(de)核心技(ji)術。自仙童半導體(ti)公(gong)司的(de)(de)羅伯特諾(nuo)伊斯在(zai)1960年(nian)發明單片集成電路(lu)以來(lai)(lai),光(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)技(ji)術一直(zhi)是主要的(de)(de)光(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)技(ji)術。本質上,陰影掩(yan)模(shadow mask)用(yong)來(lai)(lai)協助一種(zhong)稱為光(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)膠的(de)(de)光(guang)(guang)敏材料進(jin)行圖案(an)(an)化(hua),從(cong)而(er)能夠進(jin)行圖案(an)(an)化(hua)沉積和蝕刻(ke)(ke)(ke)工藝。而(er)光(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)工藝的(de)(de)最終解決(jue)(jue)方案(an)(an)是由所用(yong)光(guang)(guang)源的(de)(de)波長決(jue)(jue)定的(de)(de)。在(zai)開發更...



